超純水系統工藝：

超純水設備采用的是預備處理、膜分離技術、超提純解決及其后續處理等方式;

純凈水設備使用的通常是ro反滲透膜技術性;

水體不一樣：

的水質導電率可以根據自來水目標作出調整，也分為五個級別：0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm。

超純水系統的水質導電率>15MΩ.cm;

純凈水設備依據污水處理工藝不一樣，產出的水體不一樣：EDI加工工藝15～18MΩ·cm、混床2～10MΩ·cm;

自來水的標準：

超純水設備適合于超純材料及超純實驗試劑的生產與清理、電子產品生產與清理、充電電池新產品的生產制造、半導體產品的生產與清理、線路板的生產與清理、別的新科技細致新產品的生產制造等;

純凈水設備適合于發電廠電廠水處理;電子器件、半導體材料、精密機械制造領域超純水系統;食品類、飲品、飲水的制取;中小型純凈水站，團隊喝純凈水;制藥工業工藝用水;生物化工、精尖課程自來水;別的行業所需要的高純度水制備。

導電率≥18MΩ.CM的污水處理工藝：原水預處理→ro反滲透→正中間儲水箱→離心水泵→EDI設備→提純儲水箱→純離心水泵→紫外線殺菌器→打磨拋光混床→0.2或0.5μm反滲透設備→自來水目標。

導電率≥15MΩ.CM污水處理工藝：原水預處理→ro反滲透→正中間儲水箱→離心水泵→EDI設備→純儲水箱→純離心水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm反滲透設備→自來水目標;